| 产品特性：双光束 | 新旧程度：9成新 | 类型：光学仪器 |
| 品牌：日立 | 型号：U-4100 | 设备所在地：东莞 |
| 设备生产产地：日本 | 产品数量：3 | 电脑：有 |
| 支架：有 | 样品尺寸：200 | 样品舱：标准 |
| 测定波长范围 ：=：240-2600nm |
产品名称:日立U-4100双单色器，双光束紫外/可见/近红外光谱仪
产品型号:日立U-4100
产品产地:日本
系统配置：
分光系统： 棱镜-光栅
样品舱： 大型样品舱
样品尺寸： 430 x 430mm
测定波长范围： 240-2600nm
检测器： 标准积分球
拥有超大样品舱，对于大型样品的透射/反射测量非常方便，比如玻璃板材，单晶硅片，液晶板，激光晶体，透镜组等超大，超长样品都可进行无破坏检测。
U4100紫外区高灵敏度测量系统
系统配置：
分光系统： 光栅-光栅
样品舱： 标准
样品尺寸： 200 x 200mm
测定波长范围： 240-2600nm
检测器： 高灵敏度积分球
此系统采用的光源、单色器和检测器都是经过特别设计和选择，适合应用于紫外区的光谱研究，特别是175-190nm这个区域有很好的光学性能。可测试那些应用在紫外光谱区的光学部件样品。
注意：高灵敏度积分球为双孔积分球，可特别定制4孔积分球，请提前联络。
U4100液体样品测量系统
系统配置：
分光系统： 棱镜-光栅
样品舱： 10mm角液体池
测定波长范围： 185-3300nm
检测器： 光电倍增管和冷PbS
专用于液体样品吸光度测定。采用光束直接入射检测器方式，扩宽了测定的波长范围。装配标准10mm角液体池，用于液体样品的透过率和吸光度的测定。也可选配积分球附件用于固体样品测试。
精选附件：(更多附件请咨询当地销售工程师)
1． 角度可变反射附件 (P/N134-0115)
利用检测器（全积分球）的独立旋转，可以测量任意角度的样品的反射率。最适合棱镜样品的测试。
指标：
入射角： 20o~60o
样品尺寸： 平面板30 x 30 ~40 x 140mm棱镜样品 85mm3
波长范围： 300-2600nm
2．棱镜测定附件
各种棱镜在入射角为45o时的透过率、反射率的测定。
指标：
入射角： 45o
样品尺寸： 16mm ~ 60mm立方体
测***： 中心
波长范围： 240-2600nm
主要特点 最适合半导体、光学元件、新型材料的光谱性能研究，是功能劲的分光光度系统。
--高性能的固体，液体，浑浊样品测试系统。
--透射，镜面反射和漫反射都可测试。
--使用超大样品舱，样品可至430 x 430mm，大型样品测试也无需破坏。
--紫外区***可测至175nm。
有四种系统可选：
1) U4100固体样品测量系统(240-2600nm)
2) U4100大样品测量系统(240-2600nm)
3) U4100紫外区高灵敏度测量系统(175-2600nm)
4) U4100液体样品测量系统(185-3300nm)
注意：在发货以后，各系统之间无法通过升级实现转换。如果您有特殊
需要，可联络当地销售工程师提供定制服务。
| 二手设备清单 | ||
| 1 | 抛光设备 | 日本（HAMAL 创技）：9到40B |
| 德国双端面磨床（皮特沃斯：319 320） | ||
| 台湾多米诺单面抛，国产单面抛（900到1.7米） | ||
| 台湾环抛机（610 900 1米） | ||
| 国产抛光机（瑞德9B 13B 15B 16B 20B） | ||
| 2 | 检测设备 | 干涉仪（美国ZYGO 日本富士 日本奥林巴斯） |
| 日本岛津光度计（ 1700 1800 2450 2550 2601） | ||
| 进口光谱仪（日本日立4100 傅立叶红外光谱仪） | ||
| 平坦度测试仪（进口FT17 康宁100） | ||
| 日本帕尔：中心仪 日本尼康：准直仪 | ||
| 3 | 奥林巴斯透镜设备 | 日本春进下摆机，球面铣磨机，上摆机，推拉机，芯取磨边机 |
| 4 | 玻璃加工设备 | 中航仿开机：150 |
| 精雕机（北京精雕，台湾大量，恒远，远洋，佳铁） | ||
| 切割机（韩国全自动切割机，台湾精一异形切割机 台湾裂片机） | ||
| 5 | 测量设备 | 二次元影像测量仪（全新二手各种型号***出售 ） |
| 三坐标（思瑞 三丰 杜芬品牌） | ||
| 6 | 镀膜设备 | 德国莱宝，新科隆，光驰，韩一，成都南光 |
| 7 | 配件辅料 | 抛光皮，金钢砂盘，修正轮 |
平面研磨抛光加工对硬质合金原料工件的研磨加工大致和淬硬钢件的研磨加工办法相同，也分为研磨前的预加工、粗研磨、半精研磨以及精研磨等几个步骤。可是，因为硬质的合金材料的特点是比较的硬，所以在精细研磨抛光机选择磨料的时分，会有所不同，这其间，研磨前的预加工是选用绿色的碳化硅砂轮或是碳化硼来进行加工;而粗研磨的时分则选用碳化硼所制成的研磨粉来进行;半精研磨及精研磨选用金刚石研磨粉来进行。
平面研磨抛光加工对硬质合金的工件进行研磨加工前所进行的预加工，其加工的办法许多。比如，进行磨削、电解磨削、磨料粗荒的研磨、及超声波加工都是能够到达预加工的作用等，而比较经常被选用的是磨削和用碳化硼磨料作粗荒的研磨加工。其出产功率比较低，所以对大批量的出产则常选用碳化硼的研磨粉来进行粗荒研磨的办法。
以硬质合金原料为例，硬质合金材料研磨抛光步骤：
1、在选用较硬的铸铁研磨盘原料研具的时分，敷涂火油同180度碳化硼调合成的研磨剂，加以恰当压力进行研磨加工。一般这道工序为下道粗研工序留有0.07一0.1mm的加工余量为宜。
2、粗研磨的加工办法与预加工比较相似，大的不同主要是，它所选用3碳化硼的型号不同。这道工序中加工预留量一般是0.03至0.05mm作用佳。
3、粗光的加办法一般是选用通过校正后的嵌好沙的研磨盘研具，敷涂上w1.5至w2.5的金刚石粉研磨膏并通过稀释，需要将洗净了的粗研过的工件放在辐板孔中，然后以恰当压力进行研磨加工、精细研磨。通过本工序的加工，工件的几何形状的精度和表面的光洁度取得的较***的提高，这也为下一道工序做好了预备，工序中所预留的加工余量为0.015到0。003毫米左右。
4、进行半精研磨时，其加工办法与上一道工序相相似，所不同的是选用的金刚石粉研磨膏为W1，一般加工中预留量为1到1.5微米。
5、平面研磨抛光加工中的精研磨的加工办法与第三道工序有所不同的是研具嵌砂粒度为W1~W1.5，所选用的研磨剂是 W0.5至W1金刚石粉研磨膏，这道工序又分为去余量的研磨和精细研磨两个分工加工，其间，去余量的研磨的分工序其加工留量一般为0.5到0.7微米，所到达的工件表面光洁度为▽13，而终精研磨除了表面光洁度可到达▽14级以外。还需要全面的到达量块所规定的***的各项精度要求。
