| 产品特性：全自动 | 是否进口：否 | 产地：韩国 |
| 加工定制：否 | 品牌：韩国韩一 | 型号：2050 |
| 产品别名：镀膜机 光学机 电镀机 | 适用范围：所有镀膜行业 | 规格：2050 |
| 电子枪：双枪 | 晶控：一个 | 扩散泵：双泵 |
| 光控：带 | 年份：2022年 |
含安装调试韩一HVC-2050DA手机后盖/苹果手机LOGO玻璃/手机面板/手机行业镀膜机介绍
| HVC-2050DA 镀膜机设备配置表 | |||||
| 设备配置明细 | |||||
| 序号 | 品名 | 数量 | 单位 | 品牌 | |
| 1 | 机控 | 1 | 台 | HVC-2050DA | |
| 2 | 机械泵 SV630 | 1 | 台 | ||
| 3 | 罗茨泵 WAU2001 | 1 | 台 | ||
| 4 | 电子枪 | 1 | 台 | 韩一 | |
| 5 | 电子枪钳锅 | 1 | 套 | 12穴 | |
| 6 | 离子源 | 1 | 台 | 韩一霍尔源 | |
| 7 | 流量计（MFC） | 2 | 路 | 韩一 | |
| 8 | 压控 APC | 1 | 套 | 韩一 | |
| 9 | 电控箱 | 加热系统 | 1 | 套 | 下加热 |
| 晶控 | 1 | 台 | 韩一晶控 | ||
| PLC 及系统 | 1 | 台 | 韩一 原装 | ||
| 10 | Poly-Cold 冷冻机 | 2 | 台 | 韩国 V-PLUS1000H | |
| 11 | 真空控制计 | 1 | 套 | 韩一 | |
| 12 | 护板 | 1 | 套 | 韩一 |
一、真空蒸发(Vacuum Evaporation)
当金属在真空中加热时，它会变成气体并蒸发。真空蒸发就是利用这一原理。处理主要在10-5Tor以下的真空中进行。金属和各种化合物可用作附着物。其应用包括镜片、反射镜、塑料零件等；然而，金属表面硬化的目的很少，主要用于装饰物。
二、溅射涂层(Sputtering)
当高能粒子撞击目标材料时，目标中的分子或原子被撞击。这个原理是以目标为阴极，以基板为阳极，在10-2tor左右的Ar气氛中加入高压时，阴极附近的Ar气离子变成Ar。 ，与阴极相撞，被Ar撞击 离子撞击飞出的分子或原子撞击基板并积累形成薄膜。
溅射的应用范围很广，其膜的功能是耐磨、耐腐蚀、耐热、耐静电或装饰，但由于附着力问题在刀具的应用中很少见。适用于大规模连续涂层，如手机部件等。
三、离子镀(Ion Plating)
离子涂层是PVD涂层过程中的方法；该方法是一种利用电弧冲击靶材，激发靶材原子，与反应性气体反应，在工件表面形成化合物沉积的技术。炉内运行至高真空后，通入惰性气体，加偏压导致氩离子(Ar )，带负电的电子(e-)，带正电的氩离子会撞到进入偏压为负极的基底，以清洁工件表面；然后进入反应气体，在靶材和基底之间产生电浆，进行涂层操作。该方法成膜速度快，密封性好，多用于刀具涂层处理。
大多数企业采用进的阴极电弧法(cathode arc)涂层操作。与其他方法相比，该方法具有更高的离化率、均匀的附着力和密度，主要用于金属硬涂层，特别是需要耐磨的物体。
PVD真空离子镀膜与传统电镀的区别
真空涂层厚度为微米级，1μm 相当于传统电镀的十分之一，所以涂层操作后不会影响工件的精度；传统电镀的批复方法是在外部形成一层电镀层，没有高密度。
PVD 传统电镀工艺示意图中真空离子镀膜与电镀方式的膜形差异 PVD涂层工艺示意图
一般来说，由湿式涂层制成的涂层将在表面覆盖成薄膜层 ，无论底材的原始形状如何，表面呈现的薄膜层都会趋于平整。 PVD 涂层会根据基材的平均形状在上面形成涂层层，根据基材的高低形状而有所不同，涂层后的高低形状也会根据原基材的状态而有所不同。
镀膜机清单 | |
品牌 | 规格（MM） |
日本光弛 | 1300.1550.2350 |
日本新科隆 | 1350 |
韩国韩一镀膜机 | 900.1200.1600.2050 |
韩国联合镀膜机 | 1650.205 |
莱宝镀膜机 | APS1100 |
台湾龙翩 | 1400.1650.1800 |
成都南光 | 1100 1300 |
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